1997年7月

特殊ガス事業への取り組みと、高純度塩素の増産計画

工業ガスのスペシャルティー化の一環として液化ジシラン、高純度塩素、無水塩酸、トリエス、F-トリエス等の電子産業向け特殊ガス事業に取り組んでいます。
液化ジシランは、半導体等におけるシリコン薄膜の成膜において高速成膜性やプロセスの低温化が可能という特性から、この分野で酸化膜、窒化膜、ポリシリコン膜、エピタキシャル成長などの半導体プロセスにおける原料ガスとして、国内外の電子産業メーカー向けに着実な伸びを示しています。
高純度塩素は、半導体や光ファイバー向けで需要が拡大しており、この需要に対応するよう増産計画を進めています。また、特殊ガスの事業拡大のため、新規特殊ガスやその用途開発を推進すると共に、国内市場に留まることなく海外市場にも注力しています。